電化學預拋、機械精拋、蝕刻打標三合一體拋光技術

介紹了一種先進的電化學拋光、常規(guī)的機械拋光和電化學蝕刻打標三合一技術.

作 者： 季仁良 Ji Renliang   作者單位： 無錫市盛良電加工設備廠  刊 名： 航空制造技術  ISTIC 英文刊名： AERONAUTICAL MANUFACTURING TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2007 ""(5)  分類號： V2  關鍵詞： 拋光技術   型腔模具   表面質量   電解液組織  

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