C/C復(fù)合材料基TaC涂層低功率激光燒蝕特征

為研究TaC涂層的高溫?zé)�蝕特征和機(jī)理, 用低功率激光儀對(duì)TaC涂層進(jìn)行了不同時(shí)間的燒蝕試驗(yàn), 并用XRD, SEM等觀測(cè)了該涂層在空氣中的氧化與燒蝕過(guò)程. 結(jié)果表明: 在大氣環(huán)境下激光燒蝕的開(kāi)始階段是TaC涂層的分解與游離碳向表面擴(kuò)散, 隨即氧化生成含碳、氧、鉭的熔體, 隨著時(shí)間的延長(zhǎng)熔體氧化為低價(jià)的鉭氧化物, 最后生成Ta2O5; 熔體在冷卻過(guò)程中析出Ta2O5針狀晶體. 在熔體與TaC之間存在1～2μm由細(xì)小的晶體和孔隙組成的擴(kuò)散過(guò)渡層, 過(guò)渡層由碳、氧、鉭組成.

作 者： 李國(guó)棟 熊翔 LI Guo-dong XIONG Xiang   作者單位： 中南大學(xué),粉末冶金國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,長(zhǎng)沙,410083  刊 名： 粉末冶金材料科學(xué)與工程  EI 英文刊名： MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING OF POWDER METALLURGY  年，卷(期)： 2005 10(3)  分類號(hào)： V257  關(guān)鍵詞： TaC   涂層   激光燒蝕   氧化   燒蝕機(jī)理  

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