交流量熱法測量SiO2薄膜的熱擴(kuò)散率

介紹了交流量熱法測量薄膜熱擴(kuò)散率的原理和系統(tǒng)組建.用脈寬為納秒級的超短激光脈沖作為熱源,測量了Si襯底上厚度為100nm和500nm的SiO2薄膜水平方向上的熱擴(kuò)散率.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明該結(jié)構(gòu)的熱擴(kuò)散率比SiO2體材料的要小,并且隨著SiO2層厚度的減小,熱擴(kuò)散率也減小.

作 者： 陳海軍 馬靈芝 唐禎安   作者單位： 大連理工大學(xué),電子系,遼寧,大連,116023  刊 名： 功能材料  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS  年，卷(期)： 2002 33(5)  分類號： O484.5 TK121 TK124  關(guān)鍵詞： 交流量熱法   薄膜   熱擴(kuò)散率  

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