金剛石/銀復合材料:制備、電泳沉積及場發(fā)射性能研究

采用化學鍍銀的方法,制備了銀包覆的金剛石復合材料,并利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)、X射線衍射儀(XRD)和拉曼(Raman)光譜對樣品的形貌和微結(jié)構(gòu)進行了表征.利用電泳沉積的方法,制備了均勻的金剛石/銀復合材料薄膜,場發(fā)射測試結(jié)果表明,在22 V/μm的電場下,金剛石/銀復合材料的發(fā)射電流密度可達23.7 μA/cm2;而在26 V/μm的電場下,高壓金剛石薄膜的發(fā)射電流密度僅為0.2 μA/cm2.與高壓金剛石薄膜的場發(fā)射結(jié)果相比,金剛石/銀復合材料的場發(fā)射性能有明顯的提高.銀的存在使銀與金剛石界面處形成電子發(fā)射區(qū),在外加電場作用下,該區(qū)域電子優(yōu)先隧穿表面勢壘逸出到真空,形成場致電子發(fā)射.

作 者： 曾樂勇 王維彪 梁靜秋 夏玉學 雷達 陳松 劉麗麗 趙海峰 任新光 ZENG Le-yong WANG Wei-biao LIANG Jing-qiu XIA Yu-xue LEI Da CHEN Song LIU Li-li ZHAO Hai-feng REN Xin-guang   作者單位： 曾樂勇,夏玉學,雷達,陳松,ZENG Le-yong,XIA Yu-xue,LEI Da,CHEN Song(中國科學院,長春光學精密機械與物理研究所,激發(fā)態(tài)物理重點實驗室,吉林,長春,130033;中國科學院,研究生院,北京,100049)

王維彪,趙海峰,任新光,WANG Wei-biao,ZHAO Hai-feng,REN Xin-guang(中國科學院,長春光學精密機械與物理研究所,激發(fā)態(tài)物理重點實驗室,吉林,長春,130033)

梁靜秋,LIANG Jing-qiu(中國科學院,長春光學精密機械與物理研究所,應用光學國家重點實驗室,吉林,長春,130033)

劉麗麗,LIU Li-li(沈陽師范大學,物理科學與技術(shù)學院,遼寧,沈陽,110034) 

刊 名： 液晶與顯示  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS  年，卷(期)： 2007 22(2)  分類號： O462.4  關(guān)鍵詞： 場發(fā)射   金剛石   銀  

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