分子印跡聚合物填充色譜柱的研究與發(fā)展

本文評述了分子印跡聚合物發(fā)展歷史、制備方法、聚合體系的選擇、性能表征及作用機(jī)理.主要介紹了其作為色譜固定相方面的應(yīng)用,并對需解決的問題提出了建議.

作 者： 劉有芹 顏蕓 徐莉 陳明潔 LIU You-qin YAN Yun XU Li CHEN Ming-jie   作者單位： 華南農(nóng)業(yè)大學(xué)理學(xué)院應(yīng)用化學(xué)系,廣東,廣州,510642  刊 名： 化學(xué)研究與應(yīng)用  ISTIC PKU 英文刊名： CHEMICAL RESEARCH AND APPLICATION  年，卷(期)： 2007 19(4)  分類號： O657  關(guān)鍵詞： 分子印跡聚合物   制備   作用機(jī)理   色譜固定相  

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