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掠出射X射線熒光光譜儀研制

時(shí)間:2023-04-28 02:23:29 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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掠出射X射線熒光光譜儀研制

掠出射X射線熒光分析技術(shù)是分析薄膜特性和介質(zhì)表面的一種重要工具.文中簡(jiǎn)述了利用掠出射X射線熒光技術(shù)分析薄膜厚度的原理和方法,介紹了一種在實(shí)驗(yàn)室里由激發(fā)光源、樣品承載系統(tǒng)、色散系統(tǒng)、探測(cè)系統(tǒng)和數(shù)據(jù)收集及處理系統(tǒng)構(gòu)成的掠出射X射線熒光光譜儀系統(tǒng),并給出了利用55Fe放射性同位素標(biāo)定該光譜儀系統(tǒng)的試驗(yàn)結(jié)果.

作 者: 鞏巖 尼啟良 陳波 曹健林   作者單位: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,吉林長(zhǎng)春 130022  刊 名: 光學(xué)精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名: OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年,卷(期): 2002 10(6)  分類號(hào): O431.1  關(guān)鍵詞: 掠出射X射線熒光   光譜分析   薄膜  

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