熱處理對NiP/CoNiP薄膜織構(gòu)和磁性能的影響

用化學(xué)鍍的方法制取了NiP/CoNiP薄膜并將樣品進(jìn)行真空熱處理.用XRD、VSM、EDS等測試手段分析了熱處理影響薄膜結(jié)構(gòu)和磁性能變化的原因.結(jié)果發(fā)現(xiàn),熱處理使薄膜的結(jié)構(gòu)發(fā)生了由α-Co向β-Co的同素異構(gòu)轉(zhuǎn)變;經(jīng)熱處理后晶粒尺寸長大到30 nm左右;經(jīng)350 ℃熱處理后薄膜的矯頑力升高到5.57×104 A/m;經(jīng)400 ℃熱處理后矩形比達(dá)到0.28.

作 者： 張巧紅 鄭鵡 馬亮 陳慶永 ZHANG Qiao-hong ZHENG Wu MA Liang CHEN Qing-yong   作者單位： 張巧紅,鄭鵡,陳慶永,ZHANG Qiao-hong,ZHENG Wu,CHEN Qing-yong(首都師范大學(xué)物理系,北京,100037)

馬亮,MA Liang(首都師范大學(xué)化學(xué)系,北京,100037) 

刊 名： 電子元件與材料  ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONIC COMPONENTS & MATERIALS  年，卷(期)： 2007 26(6)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 電子技術(shù)   薄膜   熱處理   磁性能   結(jié)構(gòu)  

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