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電沉積條件對(duì)ITO/TiO2/CdS薄膜光電性能的影響

時(shí)間:2023-04-30 20:55:48 數(shù)理化學(xué)論文 我要投稿
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電沉積條件對(duì)ITO/TiO2/CdS薄膜光電性能的影響

采用電沉積方法,以ITO/TiO2薄膜為基底,在水體系中成功制備出ITO/TiO2/CdS復(fù)合半導(dǎo)體薄膜,通過(guò)光電流作用譜考查了該薄膜電極的光電性能.實(shí)驗(yàn)表明,電鍍液的組成、實(shí)驗(yàn)溫度可影響薄膜中CdS納米粒子的生長(zhǎng),從而使不同條件獲得的復(fù)合薄膜電極的光電轉(zhuǎn)換效率不同,實(shí)驗(yàn)溫度為40℃、電鍍液的組成為CCd2+=0.02 mol·L-1,CS2O23-=0.10 mol·L-1,pH=2.0條件下沉積所得的ITO/TiO2/CdS薄膜電極,在400nm~500nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有較強(qiáng)的光吸收,也有較高的光電轉(zhuǎn)換效率.

作 者: 池玉娟 付宏剛 張恒彬 潘凱 齊樂(lè)輝 Chi Yu-juan Fu Hong-gang Zhang Heng-bin Pan Kai Qi Le-hui   作者單位: 池玉娟,付宏剛,Chi Yu-juan,Fu Hong-gang(哈爾濱工業(yè)大學(xué),應(yīng)用化學(xué)系,哈爾濱,150001)

張恒彬,潘凱,齊樂(lè)輝,Zhang Heng-bin,Pan Kai,Qi Le-hui(黑龍江大學(xué),化學(xué)化工與材料學(xué)院,哈爾濱,150080) 

刊 名: 黑龍江大學(xué)自然科學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY  年,卷(期): 2007 24(6)  分類號(hào): O644  關(guān)鍵詞: 電沉積   硫化鎘   復(fù)合薄膜   光電性能  

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