硬X射線位相襯度成象

常規(guī)X射線成象技術(shù)是建立在吸收襯度和幾何光學基礎(chǔ)上.介紹了"in-line"位相襯度成象技術(shù)和成象理論.以生物樣品為例,說明常規(guī)X射線吸收襯底成象與位相襯度成象的差別,并對X射線源尺寸對成象襯度的影響進行了研究.此外,對吸收襯底象和位相襯度象的關(guān)鍵參量進行了計算模擬和討論.

作 者： 高大超 A.POGANY A.W.STEVENSON T.GUREYEV S.W.WILKINS 麥振洪 D.C.GAO A.POGANY A.W.STEVENSON T.GUREYEV S.W.WILKINS MAI ZHEN-HONG   作者單位： 高大超,A.POGANY,A.W.STEVENSON,T.GUREYEV,S.W.WILKINS,D.C.GAO,A.POGANY,A.W.STEVENSON,T.GUREYEV,S.W.WILKINS(Commonwealth Science and Industry Research Organization Manufacturing Science & Technology PB 33,Clayton South MDC,Victoria 3169,Australia)

麥振洪,MAI ZHEN-HONG(中國科學院物理研究所和凝聚態(tài)物理中心,北京,100080) 

刊 名： 物理學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2000 49(12)  分類號： O4  關(guān)鍵詞： 位相襯度   成象   硬X射線  

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