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襯底溫度對沉積的NiTi薄膜晶化行為的影響
將采用直流磁控濺射方法制備的NiTi薄膜沉積在熱的襯底上,應(yīng)用X射線散射和小角X射線散射技術(shù)研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小.結(jié)果表明:襯底加熱可降低薄膜的晶化溫度,襯底溫度在350℃以上,濺射的NiTi薄膜已部分晶化;襯底溫度在350、370℃和420℃濺射的NiTi薄膜,對應(yīng)的晶化粒子的半徑分別是2.40、2.59、2.81 nm;薄膜中的晶化粒子以形核長大的方式進行,結(jié)晶粒子與基底之間有清晰的界面.
作 者: 李永華 紀(jì)紅 孟繁玲 邱利霞 鄭偉濤 王煜明 作者單位: 李永華,孟繁玲,邱利霞,鄭偉濤,王煜明(吉林大學(xué),麥克德爾米德實驗室材料系,吉林,長春,130023)紀(jì)紅(吉林大學(xué)物理學(xué)院,吉林,長春,130023)
刊 名: 材料科學(xué)與工藝 ISTIC EI PKU 英文刊名: MATERIALS SCIENCE & TECHNOLOGY 年,卷(期): 2003 11(3) 分類號: O484.4 關(guān)鍵詞: NiTi薄膜 晶化粒子 小角X射線散射【襯底溫度對沉積的NiTi薄膜晶化行為的影響】相關(guān)文章:
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