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n型硅微尖場發(fā)射電子能譜的模擬計算
結合金屬的場發(fā)射電子能譜,模擬計算了場滲透對n型半導體硅微尖的場發(fā)射能譜的影響,并與n型硅微尖的場發(fā)射能譜實驗結果進行了比較,討論了模擬計算誤差的來源.計算結果表明電場滲透現(xiàn)象導致硅的場發(fā)射能譜向低能方向偏移,表面電場越高,能譜的偏移量越大,其偏移程度可超過1 eV.導致硅微尖的場發(fā)射能譜偏移的主要因素是半導體的場滲透現(xiàn)象.
作 者: 元光 曹崇龍 宋翠華 宋航 嶼拹秀隆 三村秀典 YUAN Guang CAO Chong-long SONG Cui-hua SONG Hang Shimawaki Hitetaka Mimura Hitenori 作者單位: 元光,曹崇龍,宋翠華,YUAN Guang,CAO Chong-long,SONG Cui-hua(中國海洋大學,物理系,山東,青島,266100)宋航,SONG Hang(中國科學院,激發(fā)態(tài)物理重點實驗室,吉林,長春,130033)
嶼拹秀隆,三村秀典,Shimawaki Hitetaka,Mimura Hitenori(日本靜岡大學,電子工學研究所,日本濱松)
刊 名: 發(fā)光學報 ISTIC PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年,卷(期): 2008 29(3) 分類號: O462.4 TN873.95 關鍵詞: 場發(fā)射 電子能譜 硅微尖 電場滲透【n型硅微尖場發(fā)射電子能譜的模擬計算】相關文章:
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