脈沖激光退火納米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

采用XeCl準(zhǔn)分子激光實(shí)現(xiàn)了碳化硅薄膜的脈沖激光晶化,對(duì)退火前后薄膜樣品拉曼散射譜特征進(jìn)行了分析,探討了激光能量密度對(duì)納米碳化硅薄膜結(jié)構(gòu)和物相特性的影響.結(jié)果顯示晶態(tài)納米碳化硅薄膜的拉曼散射峰相對(duì)體材料的特征峰顯著寬化和紅移,并顯示了伴隨退火過程存在著硅和碳的物相分凝現(xiàn)象.隨著激光能量密度的增大,薄膜的晶化度提高,晶化顆粒增大,而伴隨的分凝程度逐漸減小.

作 者： 于威 何杰 孫運(yùn)濤 朱海豐 韓理 傅廣生   作者單位： 河北大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,河北,保定,071002  刊 名： 中國(guó)激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分類號(hào)： O657.37  關(guān)鍵詞： 薄膜物理學(xué)   拉曼散射   晶化   激光退火   碳化硅  

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