一種用于輝光放電光譜深度分析的激光實時測量新方法

摘要：輝光放電原子發(fā)射光譜儀可用于物質(zhì)表面化學(xué)成分隨深度分布的分析,在鍍層分析、金屬材料檢驗等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用.文章介紹了輝光深度分析的傳統(tǒng)方法和局限性以及實時深度測量技術(shù)的'近期研究,提出了一種用于輝光放電光譜深度分析的激光實時測量新方法.文章采用激光位移傳感器和根據(jù)激光測最方法設(shè)計的輝光放電光源構(gòu)成實時深度測量系統(tǒng),詳細闡述了系統(tǒng)的設(shè)計方案和技術(shù)原理.系統(tǒng)的設(shè)計結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)在輝光光譜分析的同時進行激光實時濺射深度的測量.通過實驗驗證和分析了激光實時測量樣品濺射深度過程中產(chǎn)生的光源位移現(xiàn)象.采用雙激光器實時深度測量系統(tǒng)對鋅合金標(biāo)準樣品進行了濺射深度的實時測量,給出了實時深度測最曲線.通過將濺射面測量曲線與參考面曲線進行疊加,得到了樣品濺射坑深度的實際值,與Dektak8型表面形貌儀測量結(jié)果一致. 作者： 萬真真[1]李小佳[1]王永清[2]施宇[3]孫榮霞[2] Author： WAN Zhen-zhen[1]  LI Xiao-jia[1]  WANG Yong-qing[2]  SHINing[3]  SUN Rong-xia[2] 作者單位： 鋼鐵研究總院,國家鋼鐵材料測試中心,北京100081河北大學(xué)電子信息工程學(xué)院,河北保定,071002北京航空航天大學(xué)軟件學(xué)院,北京,100191 期 刊： 光譜學(xué)與光譜分析   ISTICEISCIPKU Journal： Spectroscopy and Spectral Analysis 年，卷(期)： 2011, 31(9) 分類號： O657.3 關(guān)鍵詞： 輝光放電原子發(fā)射光譜儀    深度輪廓分析    激光測量    實時深度測量    輝光放電    鍍層    機標(biāo)分類號： O65 O73 機標(biāo)關(guān)鍵詞： 輝光放電光譜    深度分析    激光位移傳感器    實時測量    新方法    Analysis    Depth Profile    Laser Measurement    Determination Method    濺射    測量系統(tǒng)    原子發(fā)射光譜儀    合金標(biāo)準樣品    設(shè)計方案    測量曲線    表面化學(xué)成分    表面形貌儀    文章    位移現(xiàn)象    實驗驗證 基金項目： 國家科技部科學(xué)儀器設(shè)備升級改造專項課題

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